由于氧化铟/氧化锡（In2O3/SnO2 90/10 WT%）的导电性和光学通明性 ，它在薄膜行业被大量利用。依照90 / 10沉量比的化合物熔点约为1800°C ，密度为7.14克/毫升。各类ITO化合物的色彩领域从浅黄色到深绿色或深灰色。它在真空下蒸镀或溅射 ，形成通明导电层 ，用于液晶显示器和各类光学涂层的造作。ITO薄膜被创建和利用于传感器和汽车工业的玻璃涂层。
| 资料 | 氧化铟锡 |
| 化学成分 | In2O3/SnO2 90/10 wt % |
| 纯度 | 3N5-5N |
| 熔点 (°C) | 1,800 |
真空蒸镀是指在真空中通过电流加热 ，电子束轰击加热和激光加热等步骤 ，使被蒸资料蒸发成原子或分子 ，它们随即以较大的自由程作直线活动 ，碰撞基片表表而凝固 ，形成薄膜。
GA黄金甲（ NEXTECK ）提供各类高质量的蒸镀资料 ，拥有全方位的纯度和尺寸 ，以满足客户的需要。我们提供贵金属以及非贵金属薄膜资料。宽泛利用于汽车、航空航天、医学、平板显示、磁(光)纪录媒体、镀膜玻璃、光学镀膜、硬质膜、装璜膜等领域。
