溅射技术作为薄膜资料造备的主流工艺
，其利用领域宽泛
，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学镀膜、电子器件、高档装璜用品等行业。高纯溅射靶材则重要用于对资料纯度、不变性要求更高的领域
，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、纪录媒体、智能玻璃等行业。

20世纪90年代以来
，随着消费类电子产品等终端利用市场的急剧发展
，溅射靶材的市场规模日益扩大
，出现高速增长的势头。随着信息技术的飞速发展
，要求集成电路的集成度越来越高
，电路中单元器件尺寸不休缩幼。每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及；げ愕茸槌
，其中
，介质层、导体层甚至；げ愣家玫浇ι涠颇すひ
，因而溅射靶材是造备集成电路的主题资料之一。

近年来全球半导体市场依然处于整体安稳上升阶段。随着智能手机、平板电脑、汽车电子等终端消费领域对半导体需要的持续增长将进一步提升半导体市场容量
，预计全球半导体市场在将来将维持持续增长的态势。中国近几年来半导体产业有了急剧发展
，中国半导体产业的销售量多年来一向稳步上升。

中国溅射靶材约占封装测试资料市场的2.7%。全球半导体用溅射靶材销售额从10.1亿美元到11.4亿美元
，年均复合增长率为3.07%
，其中晶圆造作用溅射靶材年均复合增长率为3.68%
，封装测试用溅射靶材年均复合增长率为5.87%
，同比增长12.6%。

此表中国太阳能电池较为常用的溅射靶材蕴含铝坝注铜坝注钼坝注铬靶以及ITO坝注AZO靶等
，纯度要求通常在99.99%以上
，其中
，铝坝注铜靶用于导电层薄膜
，钼坝注铬靶用于反对层薄膜
，ITO坝注AZO靶用于通明导电层薄膜。这些市场的迅速崛起为中国溅射靶材市场迎来更多市场机缘。